| 2024北京國際光刻設(shè)備及光掩膜技術(shù)展覽會 |
2024北京國際光刻設(shè)備及光掩膜技術(shù)展覽會 Beijing Photolithography Equipment and Mask Application Technology Exhibition2024 >>基本信息 時間：2024年7月24-26日 地點：北京國家會議中心 >>展會簡介 微電子技術(shù)的發(fā)展一直是光刻設(shè)備和技術(shù)變革的動力，21世紀光刻技術(shù)將繼續(xù)居于諸多技術(shù)之首。光刻技術(shù)從誕生以來,在半導(dǎo)體加工制造行業(yè)中,作為圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)而廣為應(yīng)用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導(dǎo)體加工技術(shù)中最為關(guān)鍵的光刻技術(shù)和光刻工藝設(shè)備,必將發(fā)生顯著的變化。 隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高端芯片的集成度達到了數(shù)千乃至數(shù)億晶體管，推動芯片封裝技術(shù)向更高密度、更高性能發(fā)展，在傳統(tǒng)的接近/接觸式光刻機日趨無法滿足高性能、高密度、低成本的先進封裝工藝發(fā)展需求的情況下，先進的大視場、大焦深、高精度投影光刻機逐步成為先進封裝生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備。“2024北京國際光刻設(shè)備及光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會”將于7月24-26日在北京國家會議中心隆重舉辦，歡迎廣大相關(guān)單位參展、參觀！ >>展會亮點 收集最新的高質(zhì)量銷售資訊，結(jié)識高質(zhì)量買家并達成銷售交易。 了解未來生產(chǎn)需求發(fā)展全球戰(zhàn)略。 與全國代理、經(jīng)銷商構(gòu)建銷售網(wǎng)絡(luò)。 通過與各地生產(chǎn)商和買家的合作來發(fā)掘新的商業(yè)機會。 加強公司品牌建設(shè)，提高公司的行業(yè)知名度。 獲得關(guān)于最新市場趨勢、技術(shù)創(chuàng)新、行業(yè)最新發(fā)展動態(tài)以及的相關(guān)行業(yè)資訊。 >>為何參展 35家合作機構(gòu)組團參觀 形式多樣的配套會議及活動，涵蓋組團參觀、論壇、訪談 全方位海內(nèi)外渠道營銷，線上與線下共同造勢 超過300家行業(yè)媒體，提供全天候，一站式營銷解決方案 穩(wěn)固老客戶，開拓新市場，發(fā)現(xiàn)新機遇 >>觀眾邀請 邀請全國、省、市、各相關(guān)科研單位：電子、微電子、光電子、集成電路、半導(dǎo)體、微/納電機系統(tǒng)、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、航空航天、國防軍工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽能、印刷、影像等制造業(yè)、大學(xué)、研究所、咨詢機構(gòu)和公共機構(gòu)的專家代表等人員到會參觀、洽談。 >>日程安排 報到布展：2024年07月22-23日 AM8:30-PM19:30 展出時間：2024年07月24日 AM9:30-PM16:45 2024年07月25日 AM9:30-PM16:45 2024年07月26日 AM9:30-PM16:45 >>參展范圍 ◆曝光光源、光學(xué)系統(tǒng)、電系統(tǒng)、機械系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等； ◆光刻機、光刻技術(shù)、步進投影光刻機、掃描投影光刻機、納米光刻技術(shù)、無掩模光刻技術(shù)、沉浸式光刻技術(shù)、準分子激光光刻技術(shù)、極紫外光刻機、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術(shù)、微光刻技術(shù)、電子束曝光機、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機、光刻機零部件、光刻前處理材料、曝光系統(tǒng)、光刻-掩模無機芯片與加工系統(tǒng)、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設(shè)備等； ◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設(shè)備、光掩模測試等； >>聯(lián)系我們 聯(lián)系人：李先生 電 話：136 3660 4883 咨詢QQ/微信：537402178 郵 箱：sales1@ufiexpo.com |
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